移动版

电子行业:AMAT有意以钴代铜,对制程推进意义有限

发布时间:2017-05-19    研究机构:东方证券

事件

据媒体8日报道,全球最大半导体设备厂应用材料公司资深经理陆勤表示,AMAT将以钴金属全面取代铜作为导线材料,可能在7纳米制程进入学习阶段,在5纳米制程客户端有望全面导入。

核心观点

钴取代铜有助于提升芯片效能。晶圆代工巨头台积电0纳米工艺生产良率已经好转,7纳米制程预计在208年第季度投入量产,5纳米制程的研究开发也在今年初开始,在沿摩尔定律从0纳米向个位数纳米制程的演进过程中,若继续采用现有材料,导电速度将成为瓶颈。钴金属相较于铜更加活跃,若以钴金属取代铜作为晶圆加工刻蚀过程中的金属材料,将提升导电性、降低功耗并减小芯片体积,使芯片效能更优越。

钴取代铜并非制程演进的关键。从芯片制程遵循摩尔定律演进的过程来看,制程缩小的核心一方面在于内部电路设计的不断改进,另一方面在于光刻设备工艺精度逐步提升,从0纳米向个位数纳米制程演进的瓶颈也并非在于金属材料,钴相比于铜可以更好地配合低制程,但钴对铜的替代并不会显著推动个位数纳米制程的进展。

个位数纳米制程推进的关键在于光刻工艺突破。光刻是芯片制造过程中最重要的工序,直接关系到芯片的技术水平,目前业界主流采用的是沉浸式光刻工艺,对于个位数纳米制程,沉浸式光刻工艺无法达到如此高的精度,业界于2006年开始便致力于研发更先进的EUV(极紫外光刻)工艺,光刻巨头ASML已于6年出货4套EUV光刻机,同时积极推进EUV工艺升级,投资光学大厂Carl Zeiss,致力于合作开发下一代0.5NA版本EUV系统,EUV光刻机技术不断突破将有望推动个位数纳米制程逐步实现。

投资建议与投资标的

该事件对半导体设备领域有一定推动作用,国内半导体设备标的较少,具有稀缺性,我们看好半导体国产化趋势为相关公司带来的投资机会,建议关注北方华创(00237,未评级)(半导体设备)、上海新阳(300236,未评级)(半导体化学品配套设备)、太极实业(600667)(600667,未评级)(半导体固定资产投资)。

风险提示

个位数纳米制程进展不达预期;半导体设备进度不达预期;相关公司业务发展不达预期。

申请时请注明股票名称